高标准、精细化、响应快
聚酰亚胺工艺是半导体芯片制造中采用旋涂或 CVD 法涂覆耐高温、高绝缘性的聚酰亚胺材料,经高温固化、光刻蚀刻形成图形,用于层间介质、钝化层或应力缓冲层,保障器件可靠性与性能。
厚度10-200um,PI上金属图案化
最小线宽10um,厚度2-20um
厚度2-20um